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制動(dòng)盤磁粉探傷機(jī)流水線

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

進(jìn)料檢測(cè)定位→進(jìn)料輸送停止→工件上料定位伸出→工件上料伸出(伸出到位即刻返回,同時(shí)工件上料定位亦返回)→穿棒閉合→磁懸液預(yù)噴灑→復(fù)合磁化(磁化二次)→芯棒返回→出料裝置伸出(伸出到位即刻返回,完成出料工作)→工件正面熒光觀察檢查(人工)→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)下降→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)夾持工件→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上升→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)180度(人工)→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)下降→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)松開工件→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上升→工件反面熒光觀察檢查(人工)……送入退磁裝置→自動(dòng)退磁→下料

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技術(shù)與規(guī)格

產(chǎn)品說明:

一、檢測(cè)工件名稱、規(guī)格、探傷范圍、檢測(cè)速度:

1、工件名稱:制動(dòng)盤等小型環(huán)形類零件。

2、工件規(guī)格:

直徑:300≤Ф外≤320mm,40≤Ф內(nèi)≤50mm;

高度: H≤100 mm;

3、探傷范圍:外表面及其近表面任意方向的裂紋和缺陷。

4、檢測(cè)速度:約30s /件。

二、設(shè)備制造標(biāo)準(zhǔn):

1、用戶現(xiàn)場(chǎng)和需方實(shí)際探傷工藝要求。

2、中華人民共和國(guó)磁粉探傷機(jī)《GB3721-83》標(biāo)準(zhǔn),

機(jī)械工業(yè)部行業(yè)磁粉探傷機(jī)《JB/T8290-1998》標(biāo)準(zhǔn),

行業(yè)《HB/Z72-98》標(biāo)準(zhǔn)。

周向磁化電流:AC:0-4000A有效值,帶斷電相位控制,數(shù)字顯示

5.2、縱向磁化磁勢(shì):AC: 0-12000AT有效值,帶斷電相位控制,數(shù)字顯示;

5.3、磁化方式:周向磁化、縱向磁化、復(fù)合磁化;

5.4、暫載率:≥25%,連續(xù)磁化時(shí)間最大3S;

5.5、磁化靈敏度:A型2#試片(15/50)清晰顯示;

5.6、控制方式:手動(dòng)、自動(dòng);

5.7、工作節(jié)拍:約為30秒/件;

5.8、電極間距: 120mm;

5.9、上料、出料方式:氣動(dòng);

5.10、芯棒運(yùn)動(dòng)方式:氣動(dòng);

5.11、退磁方式:穿過線圈遠(yuǎn)離法;

5.12、退磁中心磁場(chǎng)強(qiáng)度:≥20 mT(200Gs);

5.13、退磁效果:≤0.3 mT(3Gs);

5.14、紫外線強(qiáng)度:距光源381mm工件表面處強(qiáng)度≥5000μW/cm2;

5.15、外形尺寸:控制柜:約800(L)×600(W)×1600(H)mm;

主機(jī):約600(L)×1000(W)×1800(H)mm;

暗室:約1200(L)×2000(W)×2200(H)mm;

退磁裝置:約1800(L)×500(W)×1500(H)mm;

5.16、電源:三相四線380V±10% 50Hz 瞬時(shí)最大60KVA;

5.17、使用環(huán)境條件:溫度:-5℃~+45℃。

空氣相對(duì)濕度:≤90%。

5.18、重量:約1500kg。

自動(dòng)程序:進(jìn)料檢測(cè)定位→進(jìn)料輸送停止→工件上料定位伸出→工件上料伸出(伸出到位即刻返回,同時(shí)工件上料定位亦返回)→穿棒閉合→磁懸液預(yù)噴灑→復(fù)合磁化(磁化二次)→芯棒返回→出料裝置伸出(伸出到位即刻返回,完成出料工作)→工件正面熒光觀察檢查(人工)→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)下降→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)夾持工件→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上升→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)180度(人工)→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)下降→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)松開工件→旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上升→工件反面熒光觀察檢查(人工)……送入退磁裝置→自動(dòng)退磁→下料

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)品預(yù)約

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需求說明: